发布需求
对接、资金托管
验收、付款(收款)
评价、结束
项目预算 面议

收藏订阅

寻求硅片领域的低光衰、高电阻分布均匀度的两元/三元共掺技术

项目编号:XP703C1012D8904

项目状态:已发布

项目分类: 非金属研发指导

所在地:江苏 / 苏州

需求内容:

我公司主要生产太阳能用硅制品、单晶硅片、多晶硅片等。

现寻求低光衰、高电阻分布均匀度的两元/三元共掺技术,要求利用B-Ga或者B-P-Ga三元共掺技术,获得低光衰、高电阻分布均匀度的高效多晶硅片,具体技术指标如下:

1)利用两元/三元共掺技术,利用PREC工艺电池光衰≤1.5%;

2)硅片整锭电阻要求控制在1~2Ω·cm,其中1~1.8Ω·cm硅片占80%以上;

3)利用PREC工艺,整点光电转换效率≥20

 欢迎有相关技术的专家与我们联系!

 


觉得需求描述的不够详细?向需求方提问: 我要提问
您对此项目的看法和相关经验:

新濠天地在线娱乐